Fraunhofer-Gesellschaft

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Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion

NETD measurement of far-infrared imagers on wafer-level under ambient pressure in batch production
 
: Utz, A.; Gendrisch, L.; Brögger, D.; Weiler, D.; Vogt, H.

Schlaak, H.F. ; Bundesministerium für Bildung und Forschung -BMBF-, Deutschland; Verband der Elektrotechnik, Elektronik, Informationstechnik -VDE-:
MikroSystemTechnik Kongress 2011 : 10.-12. Oktober 2011, Darmstadt
Berlin: VDE-Verlag, 2011
ISBN: 978-3-8007-3367-5
S.165-168
Konferenz "Systems Integration - Mikrosystemtechnik-Lösungen im Gebäude der Zukunft" <4, 2011, Dortmund>
MikroSystemTechnik Kongress <2011, Darmstadt>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IMS ()
Mikrobolometer; Test; NETD; Infrarot

Abstract
Als erstes Unternehmen in Deutschland und eines von wenigen europaweit entwickelt und produziert das Fraunhofer IMS auf Mikrobolometern basierende ungekühlte infrarot focal plane arrays (IRFPAs). Diese IRFPAs nutzen den Fern-Infrarot Wellenlängenbereich von 8 bis 14µm zur Bilderzeugung. Neben den neuesten Herausforderungen an den Produktionsprozess solcher Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) ergeben sich gleichzeitig neue Anforderungen an das die Produktion begleitende Testkonzept. Das Testkonzept des Fraunhofer IMS wird in diesem Artikel behandelt.

 

Fraunhofer IMS develops and fabricates Microbolometer based uncooled infrared focal plane arrays (IRFPAs) as the first company in Germany and one of few ones in Europe. Those IRFPAs utilize the Far-Infrared wavelength between 8 and 14µm for thermal image generation. Besides new challenges in the production process of those micro electro mechanical systems (MEMS), new demands on the test concept arose. The test concept of Fraunhofer IMS is discussed in this paper.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-183329.html