Fraunhofer-Gesellschaft

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Elektrolytische Schichten für Anwendungen in der Photovoltaik

 
: Rabbow, Thomas; Jablonowski, Robert; Roch, Mariana; Petri, Marc; Schneider, Michael

Michaelis, Alexander; Schneider, M. ; Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme -IKTS-, Dresden:
Symposium "Galvanik - eine etablierte Technik innovativ angewendet" : Tagungsband, 25.-26. November 2010, Dresden
Stuttgart: Fraunhofer Verlag, 2010 (Schriftenreihe Angewandte Elektrochemie in der Werkstoffwissenschaft 2)
ISBN: 3-8396-0205-X
ISBN: 978-3-8396-0205-8
S.71-78
Symposium "Galvanik - eine etablierte Technik innovativ angewendet" <2010, Dresden>
Deutsch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IKTS ()
photovoltaisches Bauelement; Metallisierung; Metallische Schicht; metallische Leitfähigkeit

Abstract
In der Photovoltaik werden elektrolytische Schichten eingesetzt, um den photoelektrisch generierten Strom vom Halbleiter über eine Metallisierung auf das Modul abzuleiten. Die Reinheit und Schichtdicke von üblichen Siebdruck-Metallisierungen kann galvanotechnisch erhöht werden, wodurch eine deutliche Senkung der Bahnwiderstände erreicht wird. Die abgeschiedenen Schichten weisen dabei ein epitaktisches Wachstum auf den Siebdruckschichten auf. Als neuartiges, alternatives Verfahren wird die Direkt-Metallisierung entwickelt. Zur Senkung des Kontaktwiderstandes werden Metallstacks bestehend aus Nickel, Kupfer, Zinn untersucht. Das Nickel dient als Kontakt- sowie als Barriereschicht für das Kupfer zur Verhinderung von Shunts in der Solarzelle. Zur Abscheidung von möglichst dünnen aber dennoch vollständig bedeckenden Schichten weist das Pulsstromverfahren deutliche Vorteile gegenüber der Gleichstromabscheidung auf.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-178298.html