Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Plasma etching of SnO2: F films at atmospheric pressure for silicon thin film solar cells

 
: Lopez, E.; Dresler, B.; Leupolt, B.; Dani, I.; Kaskel, S.; Beyer, E.

Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik -IWS-, Dresden:
Nanofair 2010, 8th International Nanotechnology Symposium. Abstractband : New Ideas for Industry, Dresden, 06./07.07.2010
Dresden, 2010
S.135
International Nanotechnology Symposium (Nanofair) <8, 2010, Dresden>
Englisch
Abstract
Fraunhofer IWS ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-141544.html