Reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung
Date Issued
2008
Author(s)
Schulz, U.
Munzert, P.
Kaiser, N.
Patent No
102008018866
Abstract
(A1) Es wird ein reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem angegeben, das mehrere alternierende Schichten (2, 3, 4) aufweist, die unterschiedliche Brechungsindizes aufweisen, wobei mindestens eine Schicht (4) des Interferenzschichtsystems eine nanostrukturierte Schicht aus einem organischen Material oder einem organisch-anorganischen Hybridmaterial ist. Mit dem Interferenzschichtsystem kann eine sehr geringe Reflexion ueber einen weiten Wellenlaengen- und Einfallswinkelbereich erzielt werden.