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Herstellen eines hochbrechenden, transmittierenden optischen Elements fuer die Mikrolithographie

Optical element manufacturing method for projection illumination system for manufacturing of e.g. semiconductor components, involves tempering blanks, and tempering blanks in reduced atmosphere at temperature of seven hundred degree Celsius
 
: Clauss, W.; Krell, A.; Klimke, J.

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DE 102008034191 A1: 20080721
DE 102009027704 A: 20090715
G02B0001
B29D0011
G03F0007
G02B0013
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IKTS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines bei Wellenlängen von weniger als 250 nm, insbesondere bei 193 nm transmittierenden optischen Elements aus einem hochbrechenden Material, das Spinell enthält, umfassend: Tempern eines aus dem Material hergestellten Rohlings (1a) in einem ersten Temperschritt in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre (7a) bei einer Temperatur (T1) von mindestens 1000 DEG C, und Tempern des Rohling (1a) in einem zweiten, nachfolgenden Temperschritt in einer reduzierenden Atmosphäre (7b) bei einer Temperatur (T2) von mindestens 700 DEG C, wobei die Temperatur (T2) im zweiten Temperschritt niedriger gewählt wird als die Temperatur (T1) im ersten Temperschritt. Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element, welches nach dem Verfahren hergestellt ist, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen optischen Element.

 

DE 102009027704 A1 UPAB: 20100214 NOVELTY - The method involves tempering blanks (1) made from high-breaking material containing spinel, in oxygenic atmosphere (6a) in temperature (T1) of 1000 degree Celsius by a hot isostatic press (6). The blanks are tempered in reduced atmosphere at temperature of 700 degree Celsius, where the reduced atmosphere exhibits oxygen-portion of 50 ppm. The blanks are made from polycrystalline material as single crystal. The blanks are enclosed in a gas-tight capsule during during hot isostatic pressing. The blanks are tempered with ambient pressure. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a projection illumination system comprising a projection objective. USE - Method for manufacturing an optical element transmitted in wavelengths of 193 nm, in a projection illumination system for microlithography and immersion-lithography (all claimed) for manufacturing of semiconductor components and fine structure components. ADVANTAGE - The method manufactures the optical elements such that the optical elements exhibit high transmission for UV-radiation in wavelength of below 250 nm.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-118857.html