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Title
Roentgentarget
Date Issued
2008
Author(s)
Sukowski, F.
Uhlmann, N.
Anton, G.
Loehr, A.
Hanke, R.
Patent No
102008007413
Abstract
(A1) Ein Roentgentarget zur Erzeugung einer Roentgenstrahlung (110) in einer Auftreffregion (M) eines Elektronenstrahls (120) auf das Roentgentarget weist eine Roentgenquellschicht (130) und ein Substrat (140) auf. Die Roentgenquellschicht (130) weist ein Material mit hoher Ordnungszahl und das Substrat (140) ein Material mit niedriger Ordnungszahl auf. Die Roentgenquellschicht (130) ist auf dem Substrat (140) ausgebildet und das Substrat (140) weist eine Schichtdicke (D) in Richtung einer Flaechennormalen (150) an der Auftreffregion (M) von zumindest 1 cm auf.
WO 2009098027 A1 UPAB: 20090902 NOVELTY - X-rays (110) from an electron beam (120) impinge with an angle of incidence (M) on an X-ray target with a source layer (130) having a high atomic number and a substrate (140) with a low atomic number. The source layer is in contact with the substrate having a thickness (D) in the direction of the surface Normal (150) in the region of incidence of at least 1 cm. DETAILED DESCRIPTION - The substrate thickness is preferably at least 1.5 cm thick or more. The X-ray impingement area is 1 to 500 microns wide. The X-ray source layer (130) is molybdenum, gold, platinum or tungsten. The substrate is beryllium, graphite, diamond or silicon carbide. USE - X-ray target for non-destructive materials testing. ADVANTAGE - The X-ray target has large-volume electron distribution and associated heat distribution.
Language
de
Patenprio
DE 102008007413 A: 20080204