Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Investigation of the plasma treatment in a multistep TiN MOCVD process

 
: Riedel, S.; Schulz, S.E.; Gessner, T.

:

Microelectronic engineering 50 (2000), Nr.1-4, S.533-540
ISSN: 0167-9317
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IZM ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/B-73516.html