Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

High throughput, high quality dry etching of copper/barrier film stacks

 
: Markert, M.; Bertz, A.; Gessner, T.; Ye, Y.; Zhao, A.; Ma, D.

:

Microelectronic engineering 50 (2000), Nr.1-4, S.417-423
ISSN: 0167-9317
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IZM ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/B-73515.html