Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Process and equipment simulation of dry silicon etching in the absence of ion bombardment

 
: Otto, T.; Wolf, H.; Streiter, R.; Dehoff, A.; Wandel, K.; Gessner, T.

:

Microelectronic engineering 45 (1999), S.377 ff
ISSN: 0167-9317
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IZM ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/B-63031.html