Fraunhofer-Gesellschaft

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Diamantschichten mit kontrollierter Rauhigkeit - Untersuchung der funktionellen Eigenschaften rauher Diamantschichten

 
: Bluhm, A.; Matthee, T.; Sattler, M.; Schäfer, L.

Aul, R. ; VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf; Bundesministerium für Bildung, Wissenschaft, Forschung und Technologie -BMBF-, Bonn:
Statusseminar Oberflächen- und Schichttechnologien 1995
Düsseldorf: VDI Technologiezentrum, 1995
Statusseminar Oberflächen- und Schichttechnologien <1995, Mainz>
German
Conference Paper
Fraunhofer IST ()
CVD-Diamantschicht; CVD diamond film; grinding; Läppen; lapping; Oberflächenrauhigkeit; Polieren; polishing; Schleifen; surface roughness

Abstract
Bisherige Arbeiten betrafen die Substratauswahl und erste Beschichtungen auf Probekörpern. Die anwendungsspezifischen Anforderungen erlauben es, auf das für die CVD-Diamantabscheidung vorteilhafte Si3N4 als Substratmaterial zurückzugreifen. Erste Beschichtungen wurden auf unterschiedlich vorbehandeltem Si3N4 durchgeführt. Ramanmessungen zeigen, daß die abgeschiedenen Schichten im wesentlichen aus Diamant mit typischen Halbwertsbreiten von 9 cm- 1 bei einer Peaklage von 1332 cm- 1 und einem geringen Anteil an graphitischer Phase bestehen. Röntgenuntersuchungen ergaben weder die Bildung einer Reaktionsschicht noch eine Veränderung des Si3N4-Substrats. Aus Rauhigkeitsmessungen wurden bei Schichtdicken von 5 µm Rauhtiefen bis 2 µm und Mittenrauhwerte bis 0,3 µm ermittelt.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-9763.html