Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Deposition of thick doped polysilicon films with low stress in an epitaxial reactor for surface micromachining applications

 

:

Thin solid films 259 (1995), pp.181-187
ISSN: 0040-6090
English
Journal Article
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-9241.html