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Title
Vorrichtung zur Aktivierung von Gasen im Vakuum
Date Issued
2003
Author(s)
Jung, T.
Patent No
2002-10211332
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Aktivierung eines durch die Vorrichtung stroemenden Gases mittels Hohlkathoden-Glimmentladung, die aus einem mit mindestens einer Gaszuleitung und mindestens einer Oeffnung fuer den Gasaustritt versehenen Gehaeuse, einer Hohlkathode sowie einem durch das Gehaeuse begrenzten Innenraum mit einer darin angeordneten Anode besteht, und die Dimensionierung der mindestens einen Oeffnung fuer den Gasaustritt im Verhaeltnis zur Wandstaerke der Hohlkathode derart gewaehlt ist, dass die Hohlkathoden-Glimmentladung auf den Innenraum begrenzt ist.
WO2003077279 A UPAB: 20031027 NOVELTY - The device consists of a housing with at least one gas feed line and at least one gas outlet opening, a hollow cathode and an interior volume bounded by the housing with an anode within it. The dimensions of the gas outlet opening(s) in relation to the wall thickness of the hollow cathode are selected so that the hollow cathode glow discharge is limited to the interior volume. DETAILED DESCRIPTION - AN INDEPENDENT CLAIM is also included for the following: a method of activating a gas with a hollow cathode glow discharge. USE - For activating a gas with a hollow cathode glow discharge, for use with PVD and/or CVD techniques (claimed), for use in cleaning surfaces (claimed) and for activating synthetic surfaces (claimed). ADVANTAGE - Overcomes certain disadvantages of conventional arrangements to enable efficient activation.
Language
de
Patenprio
DE 2002-10211332 A: 20020314