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Elektrodenanordnung fuer die magnetfeldgefuehrte plasmagestuetzte Abscheidung duenner Schichten im Vakuum

Electrode arrangement used for the plasma-supported magnetically-guided deposition of thin layers has magnetic field generating units assigned to longitudinal electrodes to provide adequate uniform shaping of the magnetic tunnel.
 
: Winkler, T.; Weiske, D.; Egel, M.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J.; Kopte, T.

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DE 2001-10122431 A: 20010509
DE 2001-10122431 A: 20010509
WO 2002-DE1534 A: 20020426
DE 10122431 A1: 20021128
C23C0014
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Elektrodenanordnung zum magnetfeldgefuehrten plasmagestuetzten Abscheiden von duennen Schichten im Vakuum mit mehreren parallelen laengserstreckten Elektroden mit magnetfelderzeugenden Baugruppen aus Permanentmagneten nach dem Prinzip des Magnetrons, die so dimensioniert sind, dass sich ueber parallel verlaufenden Elektrodenbereichen Magnettunnel mit im Wesentlichen gleichem Querschnitt und gleicher magnetischer Feldstaerke ausbilden, wobei mindestens einer laengserstreckten Elektrode allein eine magnetfelderzeugende Einheit oder ein Teil von dieser zugeordnet ist, die im Fall des Zerstaeubens nur durch Superposition mit den Magnetfeldern benachbarter magnetfelderzeugender Baugruppen anderer laengserstreckter Elektroden fuer eine ausreichend gleichmaessige Auspraegung der magnetischen Tunnel ueber den geraden Bereichen der Erosionsgraeben dieser laengserstreckten Elektrode bei ausreichender magnetischer Feldstaerke sorgt.

 

WO 200290612 A UPAB: 20030124 NOVELTY - Electrode arrangement has magnetic field generating units (1, 2, 3, 1', 2', 3') assigned to longitudinal electrodes to provide adequate uniform shaping of the magnetic tunnel along the straight regions of the erosion trenches on the electrodes. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: An electrical insulation is provided between the magnetic field generating units and the electrodes. The electrodes are supported by plates (4, 4') having a flat supporting part with strips. USE - Used for the plasma-supported magnetically-guided deposition of thin layers. ADVANTAGE - High target utilization is achieved.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-81964.html