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Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung

Method for generating extremely ultraviolet radiation and weak X-rays uses a discharge in gas operated on a left branch of a Paschen curve
 
: Klein, J.; Neff, W.; Seiwert, S.; Bergmann, K.

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DE 2001-10117377 A: 20010406
DE 2001-10139677 A: 20010811
EP 2001-125762 A: 20011029
WO 2002-DE1085 A: 20020323
EP 2002-729817 A: 20020323
DE 10139677 A1: 20021017
EP 1374650 A1: 20040102
H05G0002
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Verfahren zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung mit einer auf dem linken Ast der Paschenkurve betriebenen Gasentladung, insbesondere fuer die EUV-Lithographie, bei dem ein Entladungsraum (10) vorbestimmten Gasdrucks und zwei Elektroden (11, 12) verwendet werden, die jeweils eine auf derselben Symmetrieachse (13) gelegene Oeffnung (14, 15) haben und die im Verlauf eines Spannungsanstiegs beim Erreichen einer vorbestimmten Zuendspannung (Uz) ein im Bereich ihrer Oeffnungen (14, 15) gelegenes Plasma (17) ausbilden, das eine Quelle der zu erzeugenden Strahlung (17') ist, bei dem eine Zuendung des Plasmas (17) durch Einflussnahme auf den Gasdruck und/oder durch eine Triggerung erfolgt und bei dem mit der Zuendung des Plasmas (17) ein Energiespeicher mittels der Elektroden (11, 12) Speicherenergie in das Plasma (17) einspeist, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuendung des Plasmas (17) unter Anwendung eines vorbestimmten Zuendverzugs erfolgt.

 

EP 1248499 A UPAB: 20030124 NOVELTY - A discharge area (10) of pre-determined gas pressure and two electrodes (11,12) each have an opening set up on the same symmetrical axis (13) and form a plasma (17) in an area of their openings during an increase in voltage as they reach a preset ignition voltage. This is a source of radiation (17') to be generated, triggers plasma ignition and feeds stored energy into the plasma via the electrodes on igniting the plasma. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a device for generating extremely ultraviolet radiation and weak X-rays. USE - In EUV lithography. ADVANTAGE - The plasma is ignited with a triggering electrode (19) whose voltage before starting the triggering process is higher than that of one of the electrodes used as a cathode.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-81920.html