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Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekruemmter Oberflaeche durch Pulsmagnetron-Zerstaeuben

Device for coating substrates having a curved surface contains a pair of rectangular magnetron sources and substrate holders arranged in an evacuated chamber.
 
: Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J.

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DE 2001-10145201 A: 20010913
DE 2001-10145201 A: 20010913
WO 2002-EP9797 A: 20020903
DE 10145201 C1: 20021121
WO 2003023813 A1: 20030320
C23C0014
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten von Substraten (3) mit gekruemmter Oberflaeche mittels Pulsmagnetron- Zerstaeubern, enthaltend in einer evakuierbaren Beschichtungskammer mindestens ein Paar Magnetronquellen (1; 2) und Substrathalterungen, durch die Substrate (3) waehrend der Beschichtung relativ zu den Magnetronquellen linear bewegt werden koennen, wobei die Magnetronquellen (1; 2) rohrfoermige rotierende Targets besitzen, deren Verhaeltnis von Laenge zu Durchmesser der Targets mindestens 2 : 1 betraegt, die Magnetronquellen (1; 2) laengs zur Transportrichtung der Substrate (3) angeordnet sind, die Pollinien der magnetischen Mittelpole der Magnetronquellen auf den zugehoerigen Targetoberflaechen einen Abstand (4) zueinander haben, der mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht, der kuerzeste Abstand (5; 6) jedes Targets zur Oberflaeche der Substrate (3) ebenfalls mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht und die Normalen auf den Targets im Bereich der mittleren Pollinien zumindest teilweise jeweils etwa auf den naechstgelegenen Substratrand ausgerichtet sind.

 

DE 10145201 C UPAB: 20021209 NOVELTY - Device for coating substrates (3) having a curved surface contains a pair of rectangular magnetron sources (1, 2) and substrate holders arranged in an evacuated chamber. The substrates are moved linearly relative to the magnetron sources during coating. The magnetron sources have tubular rotating targets having a length to diameter ratio of at least 2:1 and are arranged in a longitudinal manner to the transporting direction of the substrates. The pole lines of the magnetic central pole of the magnetron sources have a distance from each other on the target surfaces, the distance corresponding to the substrate expansion across the transporting direction. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: The distance between the target centers is larger than the expansion of the substrates across the transporting direction. The energy in the magnetron sources in the form of unipolar pulses having a frequency of 10-100 kHz. USE - Used for coating substrates. ADVANTAGE - A uniform layer is produced.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-81911.html