Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

CO2-laser annealing of ion implanted silicon - relaxation characteristics of metastable concentrations

 
: Goetzlich, J.; Tsien, P.H.; Henghuber, G.; Ryssel, H.

Ryssel, H.; Glawischnig, H.:
Ion implantation. Equipment and techniques
Berlin; Berlin/West: Springer, 1983 (Springer series in electrophysics 11)
pp.513-519 : Abb.,Tab.,Lit.
English
Book Article
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
Dotierung; implantation; Laserannealing

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-7974.html