Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten. CO2-laser annealing of ion implanted silicon - relaxation characteristics of metastable concentrations
| Ryssel, H.; Glawischnig, H.:
Ion implantation. Equipment and techniques
Berlin; Berlin/West: Springer, 1983 (Springer series in electrophysics 11)
pp.513-519 : Abb.,Tab.,Lit. |
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| English |
| Book Article |
| Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert |
| Dotierung; implantation; Laserannealing |