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Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer optisch antireflektierenden Oberflaeche

Method and appliance for producing anti-reflective surface..
 
: Boerner, V.; Blaesi, B.; Kuebler, V.; Gombert, A.

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DE 2000-10038749 A: 20000809
DE 2000-10038749 A: 20000809
WO 2001-EP9233 A: 20010809
DE 10038749 A1: 20020228
G02B0001
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ISE ()

Abstract
Beschrieben wird ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Herstellung einer, fuer einen Wellenlaengenbereich mit der minimalen Wellenlaenge ?M antireflektieren Oberflaechenstruktur, mit einer Traegerschicht, auf der eine lichtempfindliche Materialschicht aufgebracht wird, die mit wenigstens zwei, zueinander kohaerenten Wellenfeldern mit einer Wellenlaenge ?B zum Erhalt eines stochastisch verteilten Interferenzfeldes belichtet wird, wodurch sich waehrend der Belichtung oder nach der Belichtung vermittels gezielter Materialabtragung die Oberflaechenstruktur gebildet wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass die, auf die lichtempfindliche Materialschicht gerichteten, miteinander interferrierenden, kohaerenten Wellenfelder einen Winkel ? einschliessen, fuer den gilt: ? > 2 arcsin(?B/(2 × ?M)).

 

WO 200212927 A UPAB: 20020613 NOVELTY - The device for producing an anti-reflective surface structure for a wave-length area with minimal wave length, incorporates a bearer layer (6) on which a light-sensitive layer of material is placed. At least one light source (1) emits light directed at the light sensitive layer of material. At least two wave fields interfere with each other and strike the light-sensitive layer of material. A ring diffuser (4) has a center which is impermeable to light. USE - Method and appliance for producing an anti-reflective surface structure/ ADVANTAGE - The proportion of light reflected back onto the surface structure is reduced, and is re-directed at solid angle areas.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-72733.html