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Title
Vorrichtung zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Roentgenstrahlung aus einer Gasentladung
Date Issued
2003
Author(s)
Patent No
1999-112403
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Roentgenstrahlung aus einer auf dem linken Ast der Paschenkurve betriebenen Gasentladung, bei der zwei Hauptelektroden vorgesehen sind zwischen denen sich ein gasgefuellter Zwischenraum befindet, bei der die Hauptelektroden je eine Oeffnung aufweisen durch welche eine Symmetrieachse definiert ist, und bei der Mittel zur Erhoehung der Konversionseffizienz vorgesehen sind. Bevorzugte Anwendungsgebiete sind solche die extreme Ultraviolett- (EUV-) Strahlung oder weiche Roentgenstrahlung im Wellenlaengenbereich von ca. 1-20 nm benoetigen, und insbesondere um 13 nm, wie zum Beispiel die EUV-Lithografie.
WO 200101736 A UPAB: 20010910 NOVELTY - The radiation source uses gas discharge within a gas-filled space (7) between 2 main electrodes (1,2), each provided with an opening (3,8) lying along a symmetry axis (5) for the plasma channel source, the energy conversion efficiency of the radiation source increased via an auxiliary electrode (9a) behind the opening in one of the main electrodes. USE - The radiation source is used for providing extreme UV and soft X-ray radiation in the wavelength range between 1 and 20 nm, e.g. for extreme UV lithography. ADVANTAGE - The conversion efficiency of electrical energy into radiation energy is increased by incorporation of the auxiliary electrode, for providing an increased power output.
Language
de
Institute
Patenprio
EP 1999-112403 A: 19990629