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Verfahren zur Ueberwachung einer Wechselspannungs-Entladung an einer Doppelelektrode

Monitoring AC voltage discharge between two targets for cathode sputtering by comparing discharge current or voltage for half-wave periods with tolerance standards.
 
: Fahland, M.; Milde, F.; Winkler, T.; Fickert, A.; Kirchhoff, V.

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DE 1998-19848636 A: 19981022
DE 1998-19848636 A: 19981022
WO 1999-DE3383 A: 19991019
DE 19848636 C2: 20010726
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ueberwachung einer Wechselspannungs-Entladung zwischen den Elektroden einer Doppelelektrode, insbesondere zwischen zwei Targets (1, 2) fuer die Kathodenzerstaeubung, bei dem der Entladungsstrom und/oder die Entladungsspannung jeder der beiden Halbwellen innerhalb einer Periode der Wechselspannungs-Entladung gemessen wird bzw. werden und die Differenz zwischen den jeweiligen Messwerten der zweiten Halbwelle und den entsprechenden Messwerten der ersten Halbwelle mit spezifischen Toleranzvorgaben verglichen wird und bei Ueberschreitung der Toleranzvorgaben die Energiezufuhr derart abgesenkt wird, dass die Entladung kurzzeitig erlischt.

 

DE 19848636 A UPAB: 20000712 NOVELTY - The discharge current and/or voltage of each of two half-waves within a period of the AC voltage discharge is measured, and the difference between the measured values for the second half-wave and those for the first half-wave are compared with tolerance standards. If the tolerance standards are exceeded, the supply of power is reduced so the discharge momentarily extinguishes. USE - For sputter coating apparatus. ADVANTAGE - Safely prevents the discharge state from progressing from abnormal glow discharge to arc discharge.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-63493.html