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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Verfahren zum Bedampfen bandfoermiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
 
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Patent
Title

Verfahren zum Bedampfen bandfoermiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid

Other Title
Coating a strip-shaped substrate with a transparent barrier layer of aluminum oxide through reactive evaporation of aluminum.
Abstract
Bei der reaktiven Aluminiumverdampfung ist die Erzielung von gleichmaessig transparenten und leicht unterstoechiometrischen Schichten nur realisierbar, wenn Schwankungen der Verdampfungsrate in engen Grenzen gehalten werden. Das neue Verfahren soll bei deutlich groesseren Schwankungen der Verdampfungsrate die Aufdampfung nahezu transparenter Barriereschichten aus Aluminiumoxid gestatten. Durch Ausbildung eines Partialdruckgradienten entlang der Bedampfungszone in herkoemmlichen Bandbedampfungsanlagen wird die Barriereschicht bezueglich ihrer Stoechiometrie als Gradientenschicht aufgedampft, die nur eine sehr duenne unterstoechiometrische Teilschicht aufweist. Nur diese zeigt bei Schwankungen der Verdampfungsrate eine schwankende optische Transmission, durch die geringe Dicke jedoch weniger stark. Herstellung transparenter Verpackungsfolien.

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DE 19845268 C UPAB: 20000203 NOVELTY - Reactive gas introduction takes place in such a way that its partial pressure gradient is formed in the strip feed direction. The mixing ratio between aluminum, aluminum oxide and oxygen develops as a barrier layer gradient which exhibits a maximum of the metallic aluminum content. DETAILED DESCRIPTION - Through variation of the partial pressure of the reactive gas and the position of the evaporation zone, the position and intensity of this maximum within a certain depth range of the barrier layer is adjusted so that, for the same optical transmissibility, the oxygen permeation and/or the water vapor permeation of the layer is minimized. USE - For coating strips with transparent barrier layers of aluminum oxide. ADVANTAGE - Coatings can be produced without large installation and operating costs. Coating parameters can be maintained within given ranges also in the case of small fluctuations in the evaporation rates. The method can be used in re-equipped existing aluminum evaporation installations.
Inventor(s)
Raebisch, M.
Straach, S.
Neumann, M.
Schiller, N.
Link to Espacenet
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&locale=en_EP&FT=D&CC=DE&NR=19845268A
Patent Number
1998-19845268
Publication Date
2000
Language
German
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
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