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Title
Verfahren zur Herstellung von resonanten Filtern
Date Issued
2003
Author(s)
Heinzel, A.
Gombert, A.
Wittwer, D.
Zanke, C.
Boerner, V.
Patent No
1998-19816574
Abstract
(A1) Es wird ein Verfahren zur Herstellung von resonanten Filtern vorgeschlagen, das die folgenden Schritte aufweist: Beschichten eines fuer einen gewuenschten Wellenlaengenbereich transparenten Substrats mit einem duennen Metallfilm; Aufbringen eines Photoresists auf den duennen Metallfilm; holographisches Belichten des Photoresists mit periodischen Strukturelementen und Entwickeln des Photoresists; Abaetzen des freiliegenden Metallfilms entsprechend dem vorgegebenen Muster, wobei der verbleibende Photoresist als Aetzmaske wirkt, und Entfernen des verbleibenden Photoresists.
WO 9952001 A UPAB: 19991221 NOVELTY - The method involves coating a substrate, which is transparent for a desired range of wavelengths, with a thin metal film; applying a photoresist to the film; holographically exposing the photoresist with periodic structure elements and developing the photoresist; etching the exposed metal film according to the predefined pattern, whereby the remaining photoresist acts as a photomask, and removing the residual photoresist. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a resonant filter. USE - For producing resonant filters, e.g. for thermovoltaic applications. ADVANTAGE - The method is more cost-effective than conventional methods and enables filters with large areas to be produced.
Language
de
Patenprio
DE 1998-19816574 A: 19980407