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Abschlussarbeit
Technologie zur Herstellung modulationsdotierter Feldeffekttransistoren -MODFETs- unter Verwendung der Elektronenstrahl-Lithographie
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1994
Doctoral Thesis
Title
Technologie zur Herstellung modulationsdotierter Feldeffekttransistoren -MODFETs- unter Verwendung der Elektronenstrahl-Lithographie
Thesis Note
München, Univ., Diss., 1994
Author(s)
Hülsmann, A.
Publishing Place
München
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF
Keyword(s)
Elektronenstrahl
GaAs-Technologie
HEMT
Lithographie
MMIC
MODFET