Fraunhofer-Gesellschaft

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Pyrometrische Interferometrie. Ein neues Meßverfahren zur in-situ-Prozeßkontrolle

 
: Böbel, F.G.

Erlangen: Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen, 1995, 153 pp. : Ill.
Zugl.: Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1994
Angewandte Elektronik, 1
ISBN: 3-8167-4472-9
ISBN: 978-3-8167-4472-6
German
Dissertation
Fraunhofer IIS A ( IIS) ()
film thickness; Halbleiterfertigungsgerät; in situ process control; in situ-Prozeßkontrolle; measurement; pyrometric interferometry; pyrometrische Interferometrie; Schichtdickenmessung; semiconductor measurement system; temperature measurement; Temperaturmessung

Abstract
In dieser Arbeit werden mit der Pyrometrischen Interferometrie (PI) und der Laser-unterstützten Pyrometrischen Interferometrie (LSPI) zwei neue in situ Meßverfahren für Dünnfilmtechnologien vorgestellt. Sie eignen sich zur gleichzeitigen Echtzeitbestimmung von Schichtdicke und Substrattemperatur, wobei das Auflösungsvermögen für typische Anwendungen im allgemeinen besser als 1 nm bzw. 0,10 Grad C ist. PI und LSPI sind damit die ersten Meßmethoden, mit denen eine in situ Bestimmung der Temperatur während eines Beschichtungsprozesses in Echtzeit möglich ist, ohne dabei spezielle Kenntnisse über die Temperaturabhängigkeit der optischen Parameter von Substrat oder Schicht vorauszusetzen.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-55333.html