Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Auflösungsverbesserung der optischen Lithographie mit transparenten phasenschiebenden Masken zur Herstellung von Lackstrukturen im Sub-0.25-Mikrometer-Bereich

 
: Lengsfeld, M.

Isny, 1996
Isny, FH, Dipl.-Arb., 1996
German
Thesis
Fraunhofer IAF ()
edge phase shift; Lithographie; transparente Maske

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-43672.html