Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Application of e-beam nanolithography for absorber structuring of high resolution x-ray masks

 

:

Microelectronic engineering 21 (1993), pp.159
ISSN: 0167-9317
English
Journal Article
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-4336.html