Fraunhofer-Gesellschaft

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Wohltemperierte Siliziumscheiben - Simulation und Messung der Temperaturverteilung in einem vertikalen Schichtabscheideofen

 
: Poscher, S.; Wellner, S.; Ryssel, H.

F und M. Feinwerktechnik, Mikrotechnik, Mikroelektronik 107 (1999), No.4, pp.65-67
ISSN: 1437-9503
ISSN: 0944-1018
German
Journal Article
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()
Ofen; Phoenics-CVD; Schichtabscheidung; silicium; simulation; Temperaturverteilung

Abstract
Die Temperaturverteilung in einem Schichtabscheideofen fuer Silicumscheiben wurde untersucht. Dazu wurden Simulationen mit dem Programm Phoenics-CVD und Messungen mit Thermoelementdrahtpaaren durchgefuehrt. Fuer die Simulation der Regelkreise wurde ein neuer Algorithmus programmiert. Experiment und Simulation zeigen hervorragende Uebereinstimmung.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-42116.html