Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Annealing of boron-implanted silicon using a CW CO2-laser.

Ausheilung von Bor implantiertem Silizium mittels eines CW CO2 Lasers
 
: Tsien, P.H.; Tsou, S.C.; Takai, M.; Roeschenthaler, D.; Ramin, M.; Ryssel, H.; Ruge, I.; Wittmaack, K.

Physica status solidi. A 63 (1981), pp.547-555 : Abb.,Lit.
ISSN: 0031-8965
ISSN: 1862-6300
English
Journal Article
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
annealing; Bor; implantation; laser; Rekristallisation; Silizium

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-4031.html