Fraunhofer-Gesellschaft

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Verfahrensgrundlagen der Laser-Arc-Verdampfung als Hochrate-Beschichtungsverfahren

Fundamental studies of the laser-arc-evaporation for the development of a highrate deposition method
 
: Schultrich, B.; Siemroth, P.; Scheibe, H.J.

Fellenberg, R. ; VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf:
Dünnschichttechnologien '92. Statusseminar. Berichte zu F+E-Projekten aus dem Förderbereich Physikalische Technologien des Bundesministeriums für Forschung und Technologie
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1992 (VDI-TZ-Proceedings)
ISBN: 3-18-401249-2
pp.609-616
Dünnschichttechnologien <1992, Fulda>
German
Conference Paper
Fraunhofer IWS ()
DLC-film; DLC-Schicht; gepulste Abscheidung; Hartstoffschicht; Laser-Arc; laser-induced film deposition; laserinduzierte Schichtabscheidung; pulsed deposition; PVD-Technik; PVD-technique; vacuum arc deposition; Vakuumbogenbeschichtung

Abstract
Der Laser-Arc ist eine laserinduzierte Bogenverdampferquelle für plasmagestützte Schichtabscheidung, deren Vorteil in der Steuerbarkeit der Entladung und gezielten Materialerosion besteht, so daß auch Schichtsysteme präzise, reproduzierbar und mit hoher Rate hergestellt werden können. Neben vertiefenden Untersuchungen zu Prozeßparametern wurde mit der baulichen Realisierung und technologischen Entwicklung begonnen, um die Eignung dieser Methode zur Hochratebeschichtung zu demonstrieren.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-39603.html