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Patente
Verfahren zur Dotierung von Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium mit Fremdstoffen
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Title
Verfahren zur Dotierung von Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium mit Fremdstoffen
Date Issued
1973
Author(s)
Goetzberger, Adolf
Sixt, G.
Patent No
1971-2115567
Language
de
Institute
Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE
Link
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&locale=en_EP&FT=D&CC=DE&NR=2115567A
Patenprio
DE 1971-2115567 A: 19710331