Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Verfahren und Vorrichtung zum Dotieren von Halbleitern mittels Ionenimplantation

Process and device for the doping of semiconductors by means of ion implantation
 
: Ryssel, H.

:
Frontpage ()

DE 1978-2835121 A: 19780810
DE 1978-2835121 A: 19780810
DE 2835121 A1: 19800214
H01L0021
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-38519.html