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Verbundprojekt - PVD-Verfahren bei niederen Temperaturen und neue Schichtsysteme - Teilvorhaben. Carbid- und Nitridschichtsysteme zur Beschichtung von Zerspanungswerkzeugen bei niederen Temperaturen

PVD processes at low temperatures and new film-systems
 
: Fessmann, J.; Kampschulte, G.; Olbrich, W.

Fellenberg, R. ; VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf:
Dünnschichttechnologien '92. Statusseminar. Berichte zu F+E-Projekten aus dem Förderbereich Physikalische Technologien des Bundesministeriums für Forschung und Technologie
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1992 (VDI-TZ-Proceedings)
ISBN: 3-18-401249-2
pp.584-591
Statusseminar Dünnschichttechnologien <3, 1992, Düsseldorf>
German
Conference Paper
Fraunhofer IPA ()
bias voltage; Biasspannung; carbid film system; Karbidisches Schichtsystem; physical vapour deposition; Physikalisches Aufdampfen

Abstract
Eine wässrige Vorreinigung mit anschließendem Agron- und eventuell Metallionenätzen ist ausreichend für eine PVD-Beschichtung bei niederen Temperaturen. Ein Vorteil zur Erzeugung von Schichten bei niederen Temperaturen ist eine gepulste Biasspannung. Die Beschichtungstemperatur konnte dadurch um mehr als 50xK gesenkt werden, ohne die Schichteigenschaften zu beeinflussen. Die Verwendung einer überlagert gepulsten Biasspannung ermöglichte eine gleichmäßigere Schichtabscheidung und eine bessere Prozeßkontrolle. Hybridschichten, die durch die Kombination von Arc- und Sputtertechnologie erzeugt wurden, zeigten zwar eine bessere Haftung als die Sputterschichten, waren jedoch von Makroteilchen bedeckt. Unterschiedliche Nitride, Karbide und Karbonitride von Ti, Zr, Cr und Nb wurden erzeugt und untersucht. Alle Schichten, die auf Titan basierten, zeigten gute Standzeiten im Bohrversuch. Vor allem das TiNbN und eine Gradientenschicht, die kontinuierlich von TiN zu TiC übergeht, zeigten die beste n Eigenschaften.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-38334.html