Fraunhofer-Gesellschaft

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Verbundprojekt - Diamantbeschichtung komplexer Geometrien. Teilvorhaben - Hochskalierung des Heißdraht-CVD-Prozesses zur Diamantabscheidung

 
: Bluhm, A.; Sattler, M.; Six, R.; Klages, C.-P.; Schäfer, L.

Fellenberg, R. ; VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf:
Dünnschichttechnologien '92. Statusseminar. Berichte zu F+E-Projekten aus dem Förderbereich Physikalische Technologien des Bundesministeriums für Forschung und Technologie
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1992 (VDI-TZ-Proceedings)
ISBN: 3-18-401249-2
pp.443-450
Dünnschichttechnologien <1992, Fulda>
German
Conference Paper
Fraunhofer IST ()
adhesion; chemical vapour deposition; convection; Diamantschicht; diamond film; film stress; Gasdynamik; Gasphasenabscheidung; Haftung; hot-filament CVD; microwave plasma-assisted CVD; Schichtspannung; thermal expansion; thermische Ausdehnung; uniform deposition; uniforme Abscheidung

Abstract
Die Abscheidung polykristalliner Diamantschichten aus aktivierten Gasphasen bietet die Möglichkeit, Hartmetallwerkzeuge mit komplexen Geometrien direkt mit einer extrem harten und verschleißfesten Beschichtung zu versehen. Zur Bewertung des Einflusses der Vorbehandlung auf die Haftung wurden Diamantschichten mit dem Mikrowellenplasma- aktivierten CVD-Verfahren auf mechanisch und chemisch unterschiedlich vorbehandelte Hartmetallsubstrate und Bohrer abgeschieden. Die Untersuchungen zur Hochskalierung des thermisch- aktivierten Heißdraht-CVD-Prozesses erlauben die Auswahl geeigneter Heißdrahtmaterialien und zeigen einen deutlichen Einfluß von Gasdynamik und Gaskinetik auf die Uniformität der auf Flächen bis zu 100 qcm abzuscheidenden Schichten.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-38328.html