Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Thermal annealing effects on the mechanical properties of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon oxide films

 
: Schliwinski, H.-J.; Schnakenberg, U.; Windbracke, W.; Neff, H.; Lange, P.

:

Journal of the Electrochemical Society 139 (1992), No.6, pp.1730-1735
ISSN: 0013-4651
English
Journal Article
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-36328.html