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1984
Journal Article
Titel
Technologie fuer immer kleinere Strukturen
Abstract
Um die feinen Strukturen von integrierten Schaltkreisen in der Grossserie wirtschaftlich zu erzeugen, verwendet man heute durchwegs Lithographieverfahren. Die einfache Schattenprojektion im lichtoptischen Bereich wird jedoch zunehmend durch aufwendigere Verfahren ersetzt. An solchen Entwicklungen arbeitet Siemens im Rahmen einer Arbeitsgemeinschaft, an der auch weitere Halbleiterhersteller und die Fraunhofer-Arbeitsgruppe fuer Mikrostrukturtechnik beteiligt sind. (IFT)