Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Tapered windows in SiO2, Si3N4, and polysilicon layers by ion implantation.

Tapered Fenster in SiO2, Si3N4 und Polysiliziumschichten hergestellt durch Ionenimplantation
 
: Goetzlich, G.; Ryssel, H.

Journal of the Electrochemical Society 128 (1981), pp.617-619 : Abb.,Lit.
ISSN: 0013-4651
English
Journal Article
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
implantation; Polysilizium; Tapered window

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-35726.html