Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Subhalf micron critical dimension control in X-ray lithography mask technology

 
: Mescheder, U.; Mund, F.; Trube, J.; Windbracke, W.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.

32nd International Symposium on Electron, Ion and Photon Beams '88. Proceedings
1988
International Symposium on Electron, Ion and Photon Beams <32, 1988, Fort Lauderdale/Fla.>
English
Conference Paper
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-35283.html