Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten. Simulation of the lithographic properties of ion-beam resists
| Ryssel, H.; Glawischnig, H.:
Ion implantation. Equipment and techniques
Berlin; Berlin/West: Springer, 1983 (Springer series in electrophysics 11)
pp.263-268 : Abb.,Lit. |
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| English |
| Book Article |
| Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert |
| Ionenstrahl; Lithographie; Photolack |