Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Schichtsysteme

Innovative Schichtsysteme abgeschieden mit ECD- und PVD/CVD-Verfahren
New Layer Systems
 
: Fetzer, H.-J.; Gemmler, A.; Leyendecker, F.; Mann, D.

Metalloberfläche : mo 50 (1996), No.9, pp.704-708
ISSN: 0026-0797
ISSN: 0043-2792
German
Journal Article
Fraunhofer IPA ()
CVD; Electrochemical deposition; Physikalisches Aufdampfen; plasma; plasma-Beschichtung

Abstract
Plasmaunterstützte- beziehungsweise ECD-Schichten sind zu einem unverzichtbaren Element leistungsfähiger und wirtschaftlicher Werkzeuge sowie Bauteile geworden. Durch die Kombination beider Verfahren können zusätzliche neue Anwendungsgebiete erschlossen werden. Vorgestellt werden unterschiedliche Schichtkombinationen und deren Einsatz in der Praxis. Plasma assisted, or ECD layers, have become an unrenouncable element of efficient and profitable tools and components. By combining both processes, new application areas can be developed in addition. Various combinations of layers and their practical use are introduced in here.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-32634.html