Fraunhofer-Gesellschaft

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Reparatur von Röntgenmasken

 
: Weigmann, U.

Verein Deutscher Ingenieure e.V. -VDI-, Düsseldorf:
Maskentechnik für Mikroelektronik-Bauteile '88. Tagungsband
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1988 (VDI-Berichte 720)
ISBN: 3-18-090720-7
pp.105-126
Maskentechnik für Mikroelektronik-Bausteine <1988>
German
Conference Paper
Fraunhofer ISIT ()
ion beam milling; Ionensputter; radiation induced deposition; Röntgenmaskenreparatur; strahleninduzierte Abscheidung; X-ray lithography

Abstract
Ein erfolgreicher Einsatz der Röntgenlithographie erfordert absolut defektfreie Masken. Da jedoch die Absorberstrukturen realer aus der Fertigung kommender Röntgenmasken stets defektbehaftet sind, ist das Ziel der Defektfreiheit nur zu erreichen, wenn die Masken vor ihrem Einsatz einer Inspektion und Reparatur unterworfen werden. Für die Beseitigung opaker Defekte zeichnet sich die Entfernung durch Sputtern mit fokussierten Ionenstrahlen bereits als das erfolgreichste Verfahren ab. Bei der Reparatur von klaren Defekten, wo fehlendes Absorbermaterial aufgetragen werden muß, gibt es noch drei konkurrierende Verfahren: die laser-, elektronen- oder ioneninduzierte Metallabscheidung. Der nachfolgende Beitrag beschreibt den Stand der Röntgenmaskenreparatur, insbesondere die Situation bei der Beseitigung klarer Defekte. (IMT)

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-31744.html