Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Plasma CVD of high quality titanium nitride using titanium (IV) isopropoxide as precursor

 
: Weber, A.; Pöckelmann, R.; Klages, C.-P.

:

Microelectronic engineering 33 (1997), pp.277-282
ISSN: 0167-9317
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Journal Article
Fraunhofer IST ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-28752.html