• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Artikel
  4. Photothermische Mikroskopie zeigt verborgene Defekte in UV-Hochleistungsoptiken
 
  • Details
  • Full
Options
1994
Journal Article
Title

Photothermische Mikroskopie zeigt verborgene Defekte in UV-Hochleistungsoptiken

Abstract
Bei der Entwicklung immer leistungsfähiger Lasersysteme stellen die Beschichtungen der optischen Komponenten zur Strahlerzeugung und Strahlführung eine Herausforderung an den Schichthersteller dar. Neue Fertigungstechniken und die Berücksichtigung neuester Erkenntnisse, die mit optischen und nichtoptischen Charakterisierungsmethoden gewonnen wurden, erlauben heute UV-Spiegel höchster Laserfestigkeit herzustellen. Am Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) Jena wurde ein Höchstwert im Einzelschußregime von 16 J/cm2 bei 248 nm erreicht. Entscheidend bei der weiteren Verbesserung der Laserfestigkeit der Schichtsysteme ist es, Absorptionszentren in den optischen Schichten zu vermeiden. Die Photothermik erlaubt den Nachweis minimaler Absorptionen mit Mikrometerauflösung.
Author(s)
Reichling, M.
Kaiser, N.
Bodemann, A.
Journal
Physikalische Blätter  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Keyword(s)
  • Dünne optische Schicht

  • excimer laser optics

  • fluoride thin films

  • Fluoridschicht

  • laser induced damage threshold

  • Laserzerstörschwelle

  • optical coating

  • optical thin films

  • oxide thin films

  • Oxidschicht

  • ultraviolet spectral region

  • ultravioletter Spektralbereich

  • UV

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024