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Photothermische Mikroskopie zeigt verborgene Defekte in UV-Hochleistungsoptiken

: Reichling, M.; Kaiser, N.; Bodemann, A.

	Physikalische Blätter 50 (1994), No.3, pp.247-249 ISSN: 0031-9279

	German
	Journal Article
	Fraunhofer IOF ()
	Dünne optische Schicht; excimer laser optics; fluoride thin films; Fluoridschicht; laser induced damage threshold; Laserzerstörschwelle; optical coating; optical thin films; oxide thin films; Oxidschicht; ultraviolet spectral region; ultravioletter Spektralbereich; UV

Abstract
Bei der Entwicklung immer leistungsfähiger Lasersysteme stellen die Beschichtungen der optischen Komponenten zur Strahlerzeugung und Strahlführung eine Herausforderung an den Schichthersteller dar. Neue Fertigungstechniken und die Berücksichtigung neuester Erkenntnisse, die mit optischen und nichtoptischen Charakterisierungsmethoden gewonnen wurden, erlauben heute UV-Spiegel höchster Laserfestigkeit herzustellen. Am Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) Jena wurde ein Höchstwert im Einzelschußregime von 16 J/cm2 bei 248 nm erreicht. Entscheidend bei der weiteren Verbesserung der Laserfestigkeit der Schichtsysteme ist es, Absorptionszentren in den optischen Schichten zu vermeiden. Die Photothermik erlaubt den Nachweis minimaler Absorptionen mit Mikrometerauflösung.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-28435.html