Partikelmessung auf Oberflächen. Vielzahl von Verfahren

In Reinräumen werden Partikel erzeugt oder gelangen auf verschiedenen Wegen von außen in den Reinraumbereich hinein. Selbst geringe Konzentrationen an Partikeln im Schwebstoffbereich (unter 1 fm) führen zum Beispiel in der Halbleiterfertigung zu hohem Ausschuß. Das Messen und Identifizieren von Verunreinigungen auf Oberflächen ist deshalb ein wesentlicher Bestandteil der "reinen" Technologien, weil diese Kontaminationen zu einer Beeinträchtigung bis hin zum Versagen des Produktes führen können.