Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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PACVD-derived thin films in the system Si-B-C-N

 
: Hegemann, D.; Riedel, R.; Oehr, C.

:

Chemical vapor deposition: CVD 5 (1999), No.2, pp.61-65 : Ill., Lit.
ISSN: 0948-1907
ISSN: 1521-3862
English
Journal Article
Fraunhofer IGB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-27886.html