Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Nitrogen implanted etch-stop layers in silicon

 
: Paneva, R.; Temmel, G.; Ryssel, H.; Burte, E.P.

:

Microelectronic engineering (1995), No.27, pp.509-512
ISSN: 0167-9317
Micro- and Nano-Engineering <1994, Davos>
English
Conference Paper
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()
anisotropes Ätzen; anisotropicetching; Ätzstop; etch stop; microstrukturing; Mikrostrukturierung; nitrogen implantation; silicon; Silizium; SOI; Stickstoffimplantation