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Ein neues System für eine schnelle, maskenlose optische Mikrolithografie
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1995
Book Article
Title
Ein neues System für eine schnelle, maskenlose optische Mikrolithografie
Author(s)
Bollerott, M.
Doleschal, W.
Gehner, A.
Grinewitschus, V.
Grundke, W.
Hille, F.
Kück, H.
Mahdavi, P.
Melcher, R.
Paufler, J.
Seltmann, R.
Mainwork
Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme. Tätigkeitsbericht 1994
Language
German
Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS