Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Nd-YAG laser annealing of gallium-implanted silicon.

Laserausheilung von Silizium implantiert mit Gallium
 

Journal of applied physics 24 (1981), pp.319-322 : Abb.,Lit.
ISSN: 0021-8979
ISSN: 1089-7550
English
Journal Article
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
annealing; Gallium; implantation; Laser; Rekristallisation; Silizium

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-25504.html