Publica
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Monte-Carlo simulation of silicon amorphization during ion implantation
:
Bohmayr, W.
;
Burenkov, A.
;
Lorenz, J.
;
Ryssel, H.
;
Selberherr, S.
:
DOI:
10.1109/43.736563
IEEE transactions on computer-aided design of integrated circuits and systems 17 (1998), pp.1236
ISSN: 0278-0070
English
Journal Article
Fraunhofer IIS B (
IISB
) (
)
Amorphisierung
;
amorphization
;
Halbleitertechnologie
;
ion implantation
;
Ionenimplantation
;
Monte-Carlo simulation
;
process simulation
;
Prozeßsimulation
;
semiconductor technology
