Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Monolithisches IR-Sensorsystem in Siliziumtechnologie

 

Sessler, G. ; Informationstechnische Gesellschaft -ITG-:
Sensoren, Technologie und Anwendung 1994. Vorträge der ITG-Fachtagung
Berlin: VDE-Verlag, 1994 (ITG-Fachbericht 126)
ISBN: 3-8007-1988-6
pp.235-236
Fachtagung Sensoren, Technologie und Anwendung <7, 1994, Bad Nauheim>
German
Conference Paper
Fraunhofer IMS, Außenstelle Dresden ( IPMS) ()
CMOS-Technik; Infrarotdetektor; integriertes Sensorsystem; Meßaufnehmer; SIMOX

Abstract
Wir stellen ein IR-Sensorsystem vor, welches aus einer Strahlungsthermosäule, einem Chiptemperatursensor und signalverarbeitender Elektronik besteht. Das System wird in CMOS-Technologie auf SIMOX-Wafern (Separation by IMplanted Oxygen) hergestellt. Damit wird das Ziel verfolgt, kompakte IR-Sensorsysteme mit integrierten Funktionen für einen weiten Anwendungsbereich herzustellen, die sich durch technische Vorteile wie z. B. die räumliche Unabhängigkeit von externen elektronischen Komponenten und durch die kostengünstige Herstellung in einem CMOS-Batch-Prozeß auszeichnen. Die Verwendung von SIMOX-Wafern ermöglicht die Herstellung von dotierten einkristallinen Siliziumleitbahnen auf dünnen Membranen aus Siliziumoxid/Siliziumnitrid. Durch die damit erzielte Kombination des sehr großen Seebeckkoeffizienten von einkristallinem Silizium mit gut thermisch isolierenden Membranen können hochempfindliche Strahlungsthermosäulen hergestellt werden.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-25010.html