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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Modellierung des dynamischen Verhaltens von Kurzkanal MOS-FETs
 
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1992
Conference Paper
Title

Modellierung des dynamischen Verhaltens von Kurzkanal MOS-FETs

Abstract
MOS-Modelle für Hochfrequenzsimulation sollten neben den Gleichstromkennlinien auch das dynamische Verhalten hinreichend genau beschreiben. Ein Verfahren zur Groß- und Kleinsignalsimulation besteht in der Modellierung des Hochfrequenzverhaltens durch Unterteilung des Kanals. Simulationen wie auch Streuparametermessungen zeigen, daß in den meisten Fällen ein 2-Transistormodell eine ausreichend gute Näherung darstellt. Dies erlaubt hinreichend genaue Simulationen bis zur Transistorfrequenz des MOS-Transistors sowohl im Zeit- wie auch im Frequenzbereich und ermöglicht eine gute Modellierung des statischen Verhaltens bis zu Knallängen von 1 mym. Thema des Vortrags ist die Vorstellung eines Kurzkanal-Transistors anhand gemessener und simulierter Kennlinien einschließlich der wichtigsten Kleinsignalkapazitäten. Aufbauend auf diesem Modell werden gemessene Streuparameter mit denen des 2-Transistormodells verglichen.
Author(s)
Budde, W.
Mainwork
Charakterisierung und Modellierung von Halbleiterbauelementen mit Sub-Mikrometer-Strukturen und/oder extrem hohen Operationsgeschwindigkeiten  
Conference
Diskussionssitzung "Charakterisierung und Modellierung von Halbleiterbauelementen mit Sub-Mikrometer-Strukturen und/oder extrem hohen Operationsgeschwindigkeiten" 1992  
Language
German
IMS2  
Keyword(s)
  • bipolar modelling

  • gallium arsenide

  • Galliumarsenid

  • high frequency

  • Hochfrequenz

  • Kompaktmodellierung

  • modelling

  • Modelluntersuchung

  • MOS-FET

  • MOS-Modellierung

  • Schaltung

  • transistor model

  • Transistormodell

  • zweidimensionale Modellierung

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