Abstract
Die Mikromechanik verwendet einerseits Lithographieverfahren, welche in erster Linie fuer die Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen entwickelt wurden, andererseits koennen ihre Techniken helfen, die extrem hohen Genauigkeitsanforderungen der Maskentechnik fuer hochaufloesende Sub-mym Lithographieverfahren zu erfuellen. Darunter sind hauptsaechlich Wege fuer die kontrollierbare Beeinflussung und gezielte Einstellung von mechanischen Spannungen und Dehnungen in duennen Schichten und Membranen zu verstehen. Nach einer kurzen Beschreibung der wichtigsten Ziele und Anwendungsbereiche der Mikromechanik, werden die fuer die Spannungseinstellung in duennen Maskensubstratmaterialien einsetzbaren Verfahren kurz zusammengefasst. (IMT)